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科米代謝 基礎(chǔ)知識篇?dú)庀噘|(zhì)譜儀維護(hù)

  儀器的正確使用及時維護(hù),不僅能為實(shí)驗(yàn)帶來更高效的結(jié)果,還能適當(dāng)?shù)臏p緩儀器使用壽命的減少。為了減少不必要的麻煩,儀器維護(hù)保養(yǎng)也是重中之重的工作。

  GC - MS的檢漏

  GC部分氣體泄漏通常會發(fā)生在內(nèi)部的載氣管接頭、隔墊、隔墊定位螺母、O形圈、柱螺母等位置。

  首先需要確定所有接頭是否有明顯松動,對于嚴(yán)重的漏氣可以采用皂液檢漏的方法,在管線和閥的接口處擠上適量的肥皂檢漏液,漏氣的部位會出現(xiàn)明顯的氣泡。對于輕微的漏氣,關(guān)閉氣相色譜儀進(jìn)樣口的壓力,關(guān)閉氣瓶的總閥,開啟分壓閥,若有漏氣15min后分壓表的壓力會有明顯的下降。

  MS部分的檢查:泄漏還可出現(xiàn)在MSD的更多處,如GC/MSD接口柱螺帽、GC/MSD接口O形圈、側(cè)板O形圈(整個周圍)、前端蓋和后端帽的O形圈、三級真空規(guī)管的連頭、校準(zhǔn)閥。

  在MSD中查找空氣泄漏的方法與GC部分類似,在可能發(fā)生空氣泄漏的位置涂抹丙酮或噴射氬氣,每次一個位置。總是從最近被打開過的密封裝置開始,這是最有可能發(fā)生空氣泄漏的地方。在涂抹完一個位置后,觀察數(shù)據(jù)系統(tǒng)中的峰圖變化加以判斷。

  離子源的清洗

科米代謝 基礎(chǔ)知識篇?dú)庀噘|(zhì)譜儀維護(hù)

  氣相質(zhì)譜中EI離子源在電子轟擊下,利用一定能量的電子與樣品分子發(fā)生作用,樣品分子被打掉一個電子形成分子離子,分子離子再進(jìn)一步發(fā)生化學(xué)鍵斷裂形成碎片離子。

  離子源是使樣品分子形成分子離子進(jìn)一步得到檢測的重要環(huán)節(jié),由于樣品的復(fù)雜多樣會對離子源造成污染,所以要定期對離子源進(jìn)行清洗。

  清洗前先準(zhǔn)備好相關(guān)的工具及試劑,然后打開機(jī)箱,小心地拔開與離子源連接的電纜,擰松螺絲,取下離子源。注意整個操作過程一要小心謹(jǐn)慎,二要避免灰塵進(jìn)入腔體。將離子源各組件分離,在離子源的所有組件中,燈絲、線路板和黑色陶瓷圈是不能清洗的。而離子盒及其支架、三個透鏡、不銹鋼加熱塊以及預(yù)桿需要用氧化鋁擦洗,將600目的氧化鋁粉用甘油或去離子水調(diào)成糊狀,用棉簽蘸著擦洗,重點(diǎn)擦洗上述組件的內(nèi)表面,即離子的通道。氧化鋁擦洗完畢后,用水沖凈,然后分別用去離子水、甲醇、丙酮浸泡,超聲清洗,待干后組合好離子源,先安裝好預(yù)桿、四極桿,最后小心裝回離子源,蓋好機(jī)箱,清洗完畢。

  學(xué)會這些實(shí)驗(yàn)小技巧,讓你更加得心應(yīng)手。

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