儀器的正確使用及時維護，不僅能為實驗帶來更高效的結果，還能適當的減緩儀器使用壽命的減少。為了減少不必要的麻煩，儀器維護保養也是重中之重的工作。

　　GC - MS的檢漏

　　GC部分氣體泄漏通常會發生在內部的載氣管接頭、隔墊、隔墊定位螺母、O形圈、柱螺母等位置。

　　首先需要確定所有接頭是否有明顯松動，對于嚴重的漏氣可以采用皂液檢漏的方法，在管線和閥的接口處擠上適量的肥皂檢漏液，漏氣的部位會出現明顯的氣泡。對于輕微的漏氣，關閉氣相色譜儀進樣口的壓力，關閉氣瓶的總閥，開啟分壓閥，若有漏氣15min后分壓表的壓力會有明顯的下降。

　　MS部分的檢查：泄漏還可出現在MSD的更多處，如GC/MSD接口柱螺帽、GC/MSD接口O形圈、側板O形圈(整個周圍)、前端蓋和后端帽的O形圈、三級真空規管的連頭、校準閥。

　　在MSD中查找空氣泄漏的方法與GC部分類似，在可能發生空氣泄漏的位置涂抹丙酮或噴射氬氣，每次一個位置。總是從最近被打開過的密封裝置開始，這是最有可能發生空氣泄漏的地方。在涂抹完一個位置后，觀察數據系統中的峰圖變化加以判斷。

　　離子源的清洗

　　氣相質譜中EI離子源在電子轟擊下，利用一定能量的電子與樣品分子發生作用，樣品分子被打掉一個電子形成分子離子，分子離子再進一步發生化學鍵斷裂形成碎片離子。

　　離子源是使樣品分子形成分子離子進一步得到檢測的重要環節，由于樣品的復雜多樣會對離子源造成污染，所以要定期對離子源進行清洗。

　　清洗前先準備好相關的工具及試劑，然后打開機箱，小心地拔開與離子源連接的電纜，擰松螺絲，取下離子源。注意整個操作過程一要小心謹慎，二要避免灰塵進入腔體。將離子源各組件分離，在離子源的所有組件中，燈絲、線路板和黑色陶瓷圈是不能清洗的。而離子盒及其支架、三個透鏡、不銹鋼加熱塊以及預桿需要用氧化鋁擦洗，將600目的氧化鋁粉用甘油或去離子水調成糊狀，用棉簽蘸著擦洗，重點擦洗上述組件的內表面，即離子的通道。氧化鋁擦洗完畢后，用水沖凈，然后分別用去離子水、甲醇、丙酮浸泡，超聲清洗，待干后組合好離子源，先安裝好預桿、四極桿，最后小心裝回離子源，蓋好機箱，清洗完畢。

　　學會這些實驗小技巧，讓你更加得心應手。